典型干涉儀配置

本頁主要介紹常用的干涉儀測量配置。

平面測量
平面測量裝置用于測量反射平面鏡、透鏡和窗片。被測物體必須放在專用夾具上以便于對被測面進行傾斜調整，比如用ZYGO的兩維調整架和自中心夾具放置和調整樣品。

透射波陣面測量
此裝置用于測量透射平面波前畸變。 常用于對窗片、濾光片和透鏡等的測量。另外，也可用于檢測玻璃、透明材料的均勻性。測量光束通過被測樣品，只需要將樣品放在與光軸近似垂直的位置，不需要特殊的調整。

球面測量–凸面
此裝置用于凸面樣品的面形測量。選擇合適的球面標準鏡必須滿足如下條件：首先，被測凸球面的曲率半徑必需小于球面標準鏡的后焦距，其次，被測樣品的曲率半徑與通光孔徑的比值（R/number）必須小于等于球面標準鏡的F/number。三維調整架用來調節被測樣品。

球面測量–凹面
球面標準鏡用于將干涉儀輸出平面波變為球面波，用于對球面樣品和透鏡的測量。測量時，被測樣品凹面的曲面中心必須與球面標準鏡的焦點**重合，使用GPI?的快速獲得條紋系統可以只用幾秒的時間調整好樣品的位置。三維樣品調整架用于調節被測樣品。

透鏡/光學系統質量測量
通過檢測透射波前畸變可以檢測透鏡和光學系統質量，對于聚焦于無限遠的透鏡系統，測量時與干涉儀位置如圖所示，需用一個高精度的凸球面或者凹球面將光束反射回干涉儀，通過轉動被測透鏡光軸，波束角的變化可以被檢測。

透鏡/光學系統質量測量–另一種方法
對于無限共軛的透鏡或者光學系統，尤其對于大于干涉儀測量光束直徑的透鏡系統，可以用這種方法檢測，如圖所示。此方法對于樣品的調整要求更高，可能會由于未準確校準而引入誤差。